COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL

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Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating

Homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide, or nitrile thereof

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Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof

(EN)A method of forming a metallic pattern through the chemisorption of a metal; and a pattern-forming material and a crosslinking monomer which are used in the method. The method comprises: a step in which a pattern-forming material having a composition including a matrix polymer (A) having at least either of a carboxy group and a sulfo group is used to form a pattern on a surface of a substrate by a photolithographic technique including the steps of development and rinsing with a pure-water liquid having a pH less than 7; a step in which this pattern is immersed in an aqueous solution containing a metal compound to chemisorb metal ions or metal compound complex ions onto the pattern to form a metal-containing pattern; and a step in which the metal-containing pattern is burned to form a metallic pattern comprising the elemental metal or comprising it and an oxide of the metal. The crosslinking monomer is one comprising a condensate of a polyhydric alcohol with N-methylol(meth)acrylamide.(FR)L’invention concerne un procédé de formation d’un motif métallique par chimisorption d’un métal, ainsi qu'un matériau de formation de motif et un monomère de réticulation utilisés dans ledit procédé. Le procédé comprend les étapes consistant à : utiliser un matériau de formation de motif incluant dans sa composition une matrice polymère (A) comprenant au moins un groupe carboxy ou un groupe sulfo pour former un motif à la surface d’un substrat, par une technique de photolithographie incluant les étapes de développement et de rinçage à l'aide d'un liquide aqueux pur de pH inférieur à 7 ; plonger ledit motif dans une solution aqueuse contenant un composé métallique afin de chimisorber des ions métalliques ou des ions de complexe d’un composé métallique sur le motif, afin de former un motif contenant du métal ; brûler le motif contenant du métal afin de former un motif métallique contenant le métal élémentaire ou le métal élémentaire et l’un de ses oxydes. Le monomère de réticulation est de ceux qui comprennent un produit de condensation d’un alcool polyhydrique avec du N-méthylol(méth)acrylamide.(JA) 金属を化学吸着させて形成する金属パターンの形成方法、及びそれに用いるパターン形成材料、架橋性モノマーを提供する。
基体の表面に、組成中にカルボキシル基とスルホン酸基とのうち少なくとも一方を有する（Ａ）マトリックスポリマーでなるパターン形成材料を用いて、ｐＨ＝７未満の純水液にて現像工程及びリンス工程を含むフォトリソグラフィー法によりパターンを形成する工程と、このパターンを、金属化合物を含む水溶液に浸漬し、金属イオンもしくは金属化合物錯イオンを、パターンに化学吸着させて、金属含有パターンを形成する工程と、金属含有パターンを焼成して金属単体もしくはそれに金属酸化物を含む金属パターンを形成する工程と、を備えた。また、架橋性モノマーには、多価アルコールと、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミドと、の縮合物を含有するものを用いた。