C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL

C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating

C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber

C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL

C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL

C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL

Besonders vorteilhaft wird dabei das Düsenfeld bzw. die Austrittsvorrichtung der ortsfest angeordneten Plasmaquelle mit einer translatorischen Bewegung, insbesondere einer rechteckigförmigen Bewegung, hin und her bewegt. this is particularly advantageous in the nozzle array, or the exit means of the fixedly arranged plasma source with a translational movement, in particular a rectangular shaped movement, moves back and forth.Diese Hinundherbewegung erfolgt bevorzugt senkrecht zur Vorschubrichtung des Substrates. This reciprocation is effected preferably perpendicular to the feed direction of the substrate.Neben einer translatorischen Hinundherbewegung ist jedoch auch eine rotatorische Bewegung möglich, es muss nur sichergestellt werden, dass diese zumindest teilweise Bewegungskomponenten enthält, die nicht in Vorschubrichtung des Substrates gerichtet sind. In addition to a translational reciprocation but also a rotational movement is possible, it must only be ensured that this at least partly motion contains components that are not directed in the direction of the substrate.Wird somit nachfolgend davon gesprochen, dass die Austrittsvorrichtung relativ zur Plasmaquelle in eine zweite Bewegungsrichtung bewegt wird, welche zumindest teilweise nicht der ersten Bewegungsrichtung (also der Bewegung des Substratträgers samt darauf angeordnetem Substrat relativ zur Plasmaquelle) entspricht, so ist diese Angabe nicht einschränkend dahingehend zu verstehen, dass lediglich zwei translatorische Bewegungen als erste und zweite Bewegungsrichtung durchgeführt werden, welche beispielsweise unter einem festen Winkel oder ähnliches zueinander durchgeführt werden, sondern es ist z. Is thus made hereinafter that the outlet device is moved relative to the plasma source in a second direction of movement, which is (that is, the movement of the substrate carrier together with disposed thereon substrate relative to the plasma source) at least partly not the first direction of movement corresponds to, so this information is not limiting to the effect to understand that only two translational movements are carried out as the first and second direction of movement, which are performed, for example, at a fixed angle to each other, or the like, but it is z.B. auch eine bogenförmige Bewegung als die zweite Bewegung möglich, sofern nur sichergestellt ist, dass die zweite Bewegung zumindest einen Bewegungsanteil aufweist, welcher unter einem Winkel > 0° relativ zur ersten Bewegungsrichtung durchgeführt wird. As well as an arcuate movement than the second movement, if only to ensure that the second movement comprises at least one movement component which is carried out under an angle> 0 ° relative to the first direction of movement.

Die rechteckförmige Hinundherbewegung B2 wird vorteilhafterweise mit konstanter Geschwindigkeit ausgeführt, was beispielsweise durch eine elektronische Programmsteuerung der Pneumatikzylinder sichergestellt werden kann. The rectangular reciprocation B2 is advantageously carried out at a constant speed, which may for example be ensured by an electronic program control of the pneumatic cylinder.

Die Austrittsvorrichtung The exit device3 3ist so ausgeführt, dass in eine ebene Platte eine Vielzahl von in Austrittsrichtung A (bzw. y-Richtung) verlaufende Bohrungen is designed so that in a flat plate in a plurality of exit direction A (or y-direction) extending bores3' 3 'seitlich (in x-Richtung und/oder in z-Richtung) versetzt zueinander eingebracht sind. laterally (in the x-direction and / or in the z-direction) are offset introduced to one another.Durch diese Austrittsöffnungen bzw. Düsenöffnungen Through these outlet openings or orifices3' 3 'wird das Plasma P hindurch getrieben, um wie nachfolgend beschrieben, in der eigentlichen Reaktionskammer the plasma P is driven therethrough to be described below, in the actual reaction chamber4 4auf der der Plasmaquelle gegenüber liegenden Seite der Austrittsvorrichtung on which the plasma source side opposite to the exit means3 3für die Beschichtung des Substrates S zu sorgen. to provide for the coating of the substrate S.

Wie die Schnittansicht von As the sectional view of1 1weiter zeigt, ist auf der der Plasmaquelle further shows, on which the plasma source1 1gegenüber liegenden Seite der Austrittsvorrichtung opposite side of the exit means3 3ein Wandbereich a wall area5 5, welcher im gezeigten Querschnitt U-förmig ausgebildet ist, so angeordnet, dass die beiden Schenkel des U bis an die Austrittsvorrichtung heranreichen. Which is U-shaped in the illustrated cross section, so arranged that the two legs of the U extend as far as the exit means.In dieser in Richtung senkrecht zur gezeigten Schnittebene langgestreckten U-Wanne wird der Substratträger In this vertically elongated in the direction of the sectional plane shown U-trough, the substrate carrier is2 2in einer ersten Bewegungsrichtung (Vorschubrichtung) translatorisch bewegt. translationally moved in a first movement direction (feed direction).Die erste Bewegungsrichtung, in der eine kontinuierliche Translationsbewegung des Trägers The first direction of movement, in which a continuous translational movement of the support2 2samt darauf angeordnetem Substrat S mit konstanter Geschwindigkeit durchgeführt wird, ist hierbei in z-Richtung, also senkrecht zur zweiten Bewegungsrichtung B2 und senkrecht zur Austrittsrichtung A des Plasmas P gerichtet. is carried out along with disposed thereon substrate S at a constant speed in this case is in the z direction, so directed perpendicular to the second direction of movement and B2 perpendicularly to the outlet direction of the plasma P A.Die Bewegung des Substratträgers The movement of the substrate carrier2 2erfolgt hierbei auf an sich bekannte Art und Weise. takes place here in a known manner.

Beschichtungsvorrichtung nach dem vorhergehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Austrittsvorrichtung im Wesentlichen zwischen der Plasmaquelle und dem Substratträger angeordnet ist und/oder dass die Austrittsvorrichtung als Teil der Plasmaquelle, insbesondere als beweglicher Wandabschnitt der Plasmaquelle, ausgebildet ist. Coating device according to the preceding claim, characterized in that the outlet device is substantially between the plasma source and the substrate carrier is arranged and / or that the outlet device is formed as part of the plasma source, in particular as a movable wall portion of the plasma source.

Beschichtungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bewegung in die Vorschubrichtung translatorische Bewegungsanteile aufweist und/oder als translatorische Bewegung ausgebildet ist. Coating device according to one of the preceding claims, characterized in that the movement comprises translational movement in the feed direction of play and / or is formed as a translatory movement.

Beschichtungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bewegung in die zweite Bewegungsrichtung translatorische Bewegungsanteile aufweist und/oder als translatorische Bewegung ausgebildet ist und/oder dass die Bewegung in die zweite Bewegungsrichtung rotatorische Bewegungsanteile aufweist und/oder als rotatorische Bewegung ausgebildet ist. Coating device according to one of the preceding claims, characterized in that the movement comprises in the second moving direction of translational movement of play and / or is formed as a translatory movement and / or that the movement comprises in the second moving direction of rotational movement of play and / or is designed as a rotational movement.

Beschichtungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bewegung in die zweite Bewegungsrichtung Bewegungsanteile aufweist, welche im Wesentlichen senkrecht zur Vorschubrichtung gerichtet sind und/oder dass die Bewegung in die zweite Bewegungsrichtung im Wesentlichen senkrecht zur Vorschubrichtung ausgebildet ist. Coating device according to one of the preceding claims, characterized in that the movement comprises in the second moving direction of motion components which are directed substantially perpendicular to the feed direction and / or that the movement is formed in the second movement direction substantially perpendicular to the feed direction.

Beschichtungsverfahren nach dem vorhergehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass eine Beschichtungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Vorrichtungsansprüche zur Durchführung des Verfahrens eingesetzt wird. The coating method according to the preceding claim, characterized in that a coating device according to one of the preceding apparatus claims is used for carrying out the method.

Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung oder eines Beschichtungsverfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche zur Modifikation einer Oberfläche eines Substrates bei Atmosphärenbedingungen. Use of a coating apparatus or a coating method according to any one of the preceding claims for modifying a surface of a substrate at atmospheric conditions.

DE102007063380A2007-12-202007-12-20 A coating apparatus for coating a substrate at atmospheric conditions CeasedDE102007063380A1
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