Links

Images

Classifications

H—ELECTRICITY

H01—BASIC ELECTRIC ELEMENTS

H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

H01L51/00—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof

H01L51/50—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED];

H01L51/52—Details of devices

H01L51/5203—Electrodes

H—ELECTRICITY

H01—BASIC ELECTRIC ELEMENTS

H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

H01L51/00—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof

H01L51/50—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED];

H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

H01L51/00—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof

H01L51/50—Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED];

Abstract

Translated from Korean

본 발명은 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판과 봉지 기판의 합착 공정에서 발생할 수 있는 뉴턴링(Newton's rings) 현상을 방지하기 위한 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. The present invention, more particularly, to an organic light emitting to prevent Newton rings (Newton's rings) that can occur in the cementation step of the substrate and the encapsulation substrate display device and a manufacturing of the organic light emitting display and a method of manufacturing the same It relates to a method.본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 제 1 전극, 유기층 및 제 2 전극으로 구성되는 적어도 하나의 유기 발광 다이오드가 형성된 화소 영역과 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 비화소 영역을 포함하는 제 1 기판, 상기 화소 영역이 밀봉되는 위치에, 상기 제 1 기판과 합착되어 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1 기판의 상기 비화소 영역과 상기 제 2 기판 사이에 구비되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 접착시키는 프릿을 포함하며, 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역과 상기 제 1 기판의 상기 제 2 전극이 직접 접촉되도록 형성된다. The first substrate to the organic light emitting display device according to the present invention includes a first electrode, a pixel region and a non-pixel region formed on the periphery of the pixel region and at least one organic light-emitting diode consisting of an organic layer and a second electrode formed , at a position at which the pixel area seal, is provided between the first is attached to each other and a first substrate formed of a second substrate and the non-pixel region of the first substrate and the second substrate to the first substrate and the second substrate It includes a frit bonding, and is formed such that the second electrode is in direct contact with the area of ​​the first substrate corresponding to the pixel region of the second substrate.

그러나 일반적으로 프릿이 도포 된 봉지기판을 이용하여 유기 발광 다이오드를 밀봉하는 구조에 있어서는 봉지기판의 하중에 의해 봉지기판이 기판상에 형성된 유기 발광 다이오드 쪽으로 휘어지게 된다. But it is generally used for the sealing substrate is coated with a frit be bent toward In the organic light emitting diode encapsulation substrate formed on the substrate by weight of the encapsulation substrate to the structure to seal the organic light emitting diode.이 때문에 기판과 봉지기판 간의 간격은 기판의 양 끝부분에서 가운데 부분으로 갈수록 좁아지게 된다. For this reason, the interval between the substrate and the encapsulation substrate becomes gradually narrower in the middle part at both ends of the substrate.이와 같이 기판과 봉지기판 전면(全面)의 간격이 고르게 일정하지 않으면 각 부분의 빛의 반사율 차이 때문에 뉴턴링 현상이 발생하게 된다. Thus the substrate and the distance of the front (全面) sealing substrate unless a certain uniform is the Newton ring phenomenon occurs because of a difference in reflectance of light in each portion.이러한 뉴턴링 현상으로 인해 디스플레이 특성이 저하되는 문제점이 있다. Due to this Newton ring phenomenon, there is a problem that display characteristics deteriorate.

상기 목적을 달성하기 위한 기술적 수단으로 본 발명의 일 측면은 제 1 전극, 유기층 및 제 2 전극으로 구성되는 적어도 하나의 유기 발광 다이오드가 형성 된 화소 영역과 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 비화소 영역을 포함하는 제 1 기판, 상기 화소 영역이 밀봉되는 위치에, 상기 제 1 기판과 합착되어 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1 기판의 상기 비화소 영역과 상기 제 2 기판 사이에 구비되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 접착시키는 프릿을 포함하며, 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역과 상기 제 1 기판의 상기 제 2 전극이 직접 접촉되도록 형성된 유기 전계 발광 표시장치를 제공하는 것이다. One aspect of the present invention with the technical means for achieving the above object is a non-pixel region formed in the vicinity of the first electrode, the at least one organic light-emitting diode consisting of an organic layer and a second electrode formed in the pixel region and the pixel region the first substrate, the first substrate at a position where the pixel area seal, is provided between the first is attached to each other and a first substrate formed of a second substrate and the non-pixel region of the first substrate and the second substrate including a and the second comprises a frit to bond a second substrate to provide an organic light emitting display device is formed so that the contact area with the first the second electrode of the first substrate directly corresponding to the pixel region of the second substrate.

본 발명의 다른 측면은 제 1 전극, 유기층 및 제 2 전극으로 구성되는 적어도 하나의 유기 발광 다이오드가 형성된 화소 영역과 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 비화소 영역을 포함하는 제 1 기판 및 프릿에 의해 상기 제 1 기판과 접착된 제 2 기판을 구비하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역의 외곽을 따라 상기 프릿을 도포하는 단계, 상기 프릿을 소정의 온도로 소성 하는 단계, 상기 제 2 전극과 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역이 직접 접촉되도록 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 합착하는 단계 및 상기 프릿에 적외선 레이저를 조사하여 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판이 접착되도록 하는 단계를 포함하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법을 제공하는 것이다 Another aspect of the invention by a first electrode, an organic layer and a second electrode, at least one of the first substrate and the frit to the organic light emitting diode comprises a formed pixel region and a non-pixel region formed on the periphery of the pixel region consisting of step of the manufacturing method of the first organic electroluminescence comprising a second substrate on the first substrate and bonding the display device, applying the frit according to the outline of the region corresponding to the pixel region of the second substrate, the frit the step of firing at a predetermined temperature, the second electrode and wherein the step of laminating the first substrate and the second substrate such that the direct contact area corresponding to the pixel region of the second substrate, and irradiated infrared laser to the frit and to provide the first substrate and a method of manufacturing an organic light emitting display device including the step of causing the second substrate is bonded. .

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, it will be described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention.

제 1 기판(100)은 화소 영역(100a) 및 비화소 영역(100b)을 포함한다. The first substrate 100 includes a pixel area (100a) and a non-pixel area (100b).화소 영역(100a)은 복수의 주사선(S1,S2,...Sn) 및 복수의 데이터선(D1,D2,...Dm)을 구비하며 주사선(S1,S2,...Sn) 및 데이터선(D1,D2,...Dm)에 의해 정의된 영역에 복수의 화소(50)를 구비한다. Pixel area (100a) a plurality of scan lines (S1, S2, ... Sn) and is provided with a plurality of data lines (D1, D2, ... Dm) and the scan lines (S1, S2, ... Sn) and data line and a plurality of pixels (50) in the defined area by (D1, D2, ... Dm).이때, 각 화소(50)는 특정한 주사선(S1,S2,...Sn)과 데이터선(D1,D2,...Dm) 및 전원선(미도시)에 접속되며, 적색, 녹색, 청색 및 백색 중 어느 하나의 색을 소정의 휘도 레벨로 표시한다. At this time, each pixel 50 is connected to the particular scan line (S1, S2, ... Sn) and data lines (D1, D2, ... Dm) and a power supply line (not shown), red, green, blue, and It represents any one of the color to a predetermined brightness level of the white color.따라서, 화소 영역(100a)은 각 화소(50)의 색과 휘도에 따라 소정의 화상을 표시한다. Accordingly, the pixel area (100a) displays a predetermined image based on the color and brightness of each pixel (50).

비화소 영역(100b)은 화소 영역(100a)의 주변에 형성되며, 제 1 기판(100)상의 화소 영역(100a)이 아닌 모든 영역을 나타낸다. Non-pixel area (100b) is formed in the vicinity of the pixel area (100a), it shows all the regions other than the pixel area (100a) on the first substrate 100.한편, 비화소 영역(100b)은 데이터 구동부(300), 주사 구동부(400) 및 패드부(500)를 포함한다. On the other hand, the non-pixel area (100b) includes a data driver 300, a scan driver 400 and the pad portion (500).

데이터 구동부(300)는 제 1 기판(100)의 화소 영역(100a) 내에 연장되어 있는 복수의 데이터선(D1,D2,...Dm)에 데이터 신호를 공급한다. The data driver 300 supplies data signals to the first substrate 100, a plurality of data lines extending in a pixel area (100a) of the (D1, D2, ... Dm).데이터 구동부(300)는 제 1 기판(100)에서 화소 영역(100a)의 일 측면에 형성되며 주사 구동부(400)가 형성되는 화소 영역(100a)의 일 측면에 인접한 다른 일 측면에 형성된다. The data driver 300 is formed on the other one side surface adjacent to one side of the pixel to be formed on one side of the pixel area (100a) on the first substrate 100 is formed with a scan driver 400, the area (100a).이때, 데이터 구동부(300)는 COG(Chip On Glass) 방식으로 칩 형태로 제 1 기판(100) 상에 실장 된다. At this time, the data driver 300 is mounted on the first substrate 100 in the form of a chip as a COG (Chip On Glass) method.또한, 데이터 구동부(300)는 복수의 데이터 공급선(310)에 의해 패 드부(500) 내의 복수의 제 1 패드(Pd)에 접속된다. Further, the data driver 300 is connected to the plurality of first pads (Pd) in the L deubu 500 by a plurality of data lines (310).

주사 구동부(400)는 화소 영역(100a) 내에 연장되어 있는 복수의 주사선(S1,S2,...Sn)에 순차적으로 주사 신호를 공급한다. The scan driver 400 supplies a scan signal sequentially to the plurality of which extends in the pixel region (100a) the scan lines (S1, S2, ... Sn).주사 구동부(400)는 제 1 기판(100)에서 화소 영역(100a)의 일 측면에 형성되며, 적어도 하나의 주사 공급선(410)에 의해 패드부(500) 내의 적어도 하나의 제 1 패드(Ps)에 접속된다. The scan driver 400 is formed on one side of the pixel area (100a) on the first substrate 100, at least a first pad (Ps) in the pad unit 500 by at least one of the scan lines (410) It is connected to.

프릿(150)은 제 1 기판(100)의 비화소 영역(100b)과 제 2 기판(200) 사이에 구비되며, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)을 접착시킨다. Frit 150 is adhered to the non-pixel area (100b) and the second is provided between the second substrate 200, the first substrate 100 and second substrate 200 of the first substrate 100.프릿(151)은 도면에 도시된 바와 같이 제 1 기판(100)에 형성된 화소 영역(100a)을 밀봉하도록 도포되는 것이 바람직하며, 주사 구동부(400)가 내장형일 경우, 화소 영역(100a)과 주사 구동부(400)를 밀봉하도록 도포될 수 있다. Frit 151 is preferably applied as shown in the figure so as to seal the pixel area (100a) formed on the first substrate 100, and, when the scan driver 400, a built-in the pixel area (100a) and the scanning It may be applied to seal the driving part 400. the

즉, 프릿(150)에 의해 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200) 사이가 밀봉되므로 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200) 사이에 개재된 유기 발광 다이오드가 수분 또는 산소로부터 보호될 수 있다. In other words, from the water or oxygen, an organic light emitting diode interposed between the first substrate 100 and second substrate 200, because between the sealed first substrate 100 and second substrate 200 by the frit 150 It can be protected.이때, 프릿(150)은 열팽창 계수를 조절하기 위한 필러(미도시) 및 레이저 또는 적외선을 흡수하는 흡수재(미도시)를 포함한다. At this time, the frit 150 comprises a shock absorber (not shown) for absorbing the filler (not shown), and the laser or infrared rays to control the coefficient of thermal expansion.또한, 프릿(150)은 레이저 또는 적외선 조사에 의해 경화된다. In addition, the frit 150 is cured by the laser or infrared radiation.이때, 프릿(150)에 조사되는 레이저의 세기는 25 내지 60W 의 범위로 한다. In this case, the laser irradiated to the frit 150, the intensity in the range of 25 to 60W.

한편, 유리 재료에 가해지는 열의 온도를 급격하게 떨어뜨리면 유리 분말 형태의 프릿이 생성된다. On the other hand, Improperly sharply the temperature of heat applied to glass material is generated in the glass frit in powder form.일반적으로는 유리 분말에 산화물 분말을 포함하여 사용한다. Generally used, including an oxide powder to the glass powder.그리고 프릿에 유기물을 첨가하면 젤 상태의 페이스트가 된다. And when the addition of organic material to the frit becomes a gel state paste.이때 소정의 온도로 소성하면 유기물은 공기 중으로 소멸 되고, 젤 상태의 페이스트는 경화되어 고체상태의 프릿으로 존재한다. In this case, when fired at a predetermined temperature, organic material is extinguished into the air, in the gel state paste is cured present in a solid state frit.이때, 프릿(150)을 소성하는 온도는 300 ℃ 내지 700 ℃ 범위로 한다. At this time, the temperature for sintering the frit 150 to 300 ℃ to 700 ℃ range.

제 2 기판(200)은 제 1 기판(100)의 화소 영역(100a)을 포함한 일 영역에 합착 된다. The second substrate 200 is coalesced to one region including the pixel region (100a) of the first substrate 100.이때, 제 2 기판(200)은 제 1 기판(100)의 화소 영역(100a)에 형성된 유기 발광 다이오드(미도시)가 외부로부터의 수분 또는 산소의 영향을 받지 않도록 보호하기 위해 구비된 것이다. At this time, the second board 200 is equipped in order to guard against the effects of moisture or oxygen from the outside of the organic light emitting diode (not shown) formed in pixel regions (100a) of the first substrate 100.

한편, 제 2 기판(200)은 제 1 기판(100)의 화소 영역(100a)과 접촉되도록 제1 기판(100)과 합착 된다. On the other hand, the second substrate 200 are attached to each other with the first substrate 100 so as to contact with the pixel area (100a) of the first substrate 100.즉, 발광영역(미도시)만 제외하고, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200) 사이의 공간이 생성되지 않기 때문에 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)은 휘어짐 없이 평행하게 합착 된다. That is, the light-emitting region (not shown), except the first substrate 100 and the first, because the space between the second substrate 200, is generated a first substrate 100 and second substrate 200 are in parallel without bowing that are attached to each other.따라서, 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200)의 휘어짐으로 인해 뉴톤링 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. Thus, due to the bending of the first substrate 100 and second substrate 200, it is possible to prevent the Newton's ring phenomenon.

이때, 제 2 기판(200)은 산화 실리콘(SiO 2 )으로 형성할 수 있으며 이에 제한되지는 않는다. At this time, the second substrate 200 may be formed of a silicon oxide (SiO 2) is not limited to this.

한편, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)이 직접 접촉되도록 합착하여 뉴톤링 현상을 제거하는 구조에 대한 설명은 도 3a 내지 도 3c에 나타낸 도면을 참조하여 더욱 상세히 후술하도록 한다. On the other hand, the description of the first substrate 100 and the first structure to the second substrate 200 to be attached to each other by direct contact eliminate the Newton ring phenomenon, see diagram in Fig. 3a to 3c will be to further detail below.

도 2를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 봉지기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)은 봉지기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)보다 돌출되어 형성된다. Referring to FIG. 2, a region (200a) corresponding to a pixel region of the sealing substrate 200 of an organic light emitting display device according to the present invention is a region to which a frit 150 in the sealing substrate 200 is formed (200b ) it is formed to protrude more.즉, 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각하여 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 돌출되도록 한다. That is, such that the region (200a) corresponding to the pixel regions by etching the projecting region (200b) that frit 150 is formed.이는 봉지기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 기판(미도시)과 직접적으로 접촉되도록 하기 위한 구조이다. This is a mechanism to ensure that the area (200a) in direct contact with the substrate (not shown) corresponding to the pixel region of the sealing substrate 200.이에 따라 기판과 봉지기판(200)이 평행하여 접촉되므로 그 사이에 공간이 생성되지 않는다. Accordingly, since the contact with the substrate and the sealing substrate 200 are parallel but this space is not generated therebetween.따라서, 기판 또는 봉지기판(200)이 소정의 공정으로 인해 휘어지는 현상이 발생하지 않아 뉴톤링을 방지할 수 있다. Thus, the substrate or the sealing substrate 200 is not the bending phenomenon occurs because of the predetermined process can prevent Newton's rings.

한편, 봉지 기판(200)과 기판을 직접적으로 접촉되도록 하기 위한 구조로는 상술한 바에 한정되지 않으며, 봉지 기판(200)을 식각하지 않고, 기판에 형성된 화소 정의막(미도시)의 두께를 두껍게 형성하여, 기판과 봉지 기판(200)이 접촉되도록 하는 방법도 가능하다. On the other hand, as a structure for allowing direct contact with the sealing substrate 200 and the substrate is not limited to the above-mentioned bar, without etching the encapsulation substrate 200, the thickness of the pixel defining layer (not shown) formed in the substrate formed, it is also possible to the substrate and how to ensure that the sealing substrate 200 is in contact.

도 3a 내지 도 3c를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 먼저 증착 기판(101)상에 버퍼층(111)이 형성된다. Referring to FIG. 3a to 3c, an organic light emitting display device according to the invention is first formed a buffer layer 111 deposited on the substrate 101. The증착기판(101)은 유리(glass)등으로 형성되며 버퍼층(111)은 산화 실리콘(SiO 2 ) 또는 질화 실리콘(SiNx) 등과 같은 절연 물질로 형성된다. Deposition substrate 101 is formed of a glass (glass) or the like is formed of an insulating material such as a buffer layer 111 is a silicon oxide (SiO 2) or silicon nitride (SiNx).한편, 버퍼층(111)은 외부로부터의 열 등의 요인으로 인해 증착 기판(101)이 손상되는 것을 방지하기 위해 형성된다. On the other hand, the buffer layer 111 is formed to prevent the damage to the deposition substrate 101 due to factors such as heat from the outside.

버퍼층(111)의 적어도 어느 일 영역 상에는 액티브층(112a)과 오믹 콘택층(112b)을 구비하는 반도체층(112)이 형성된다. At least one a semiconductor layer 112 having an active layer (112a) and an ohmic contact layer (112b) formed on the region of the buffer layer 111 is formed.

반도체층(112)을 포함하여 버퍼층(111) 상에는 게이트 절연층(113)이 형성되고, 게이트 절연층(113)의 일 영역 상에는 액티브층(112a)의 폭에 대응하는 크기의게이트 전극(114)이 형성된다. The buffer layer 111 formed on the gate insulator is formed on layer 113, the size of the gate electrode 114 corresponding to the width of a formed on one region of the gate insulating layer 113, an active layer (112a) comprising a semiconductor layer (112) It is formed.

평탄화층(117)의 일 영역 상에는 제 1 전극(119)이 형성되며, 이때 제 1 전극(119)은 비아홀(118)에 의해 소스 및 드레인 전극(116a,116b)중 어느 하나의 노 출된 일 영역과 접속된다. One first electrode 119 formed on the region of the planarization layer 117 is formed, wherein one of the furnace exported one region of the first electrode 119 is a source and drain electrodes (116a, 116b) by a via hole 118, It is connected with.

제 1 전극(119)을 포함하여 평탄화층(117) 상에는 제 1 전극(119)의 적어도 일 영역을 노출하는 개구부(미도시)가 구비된 화소 정의막(120)이 형성된다. The first pixel defining layer (120) provided with an opening (not shown) that exposes at least one region of the formed on the planarization layer 117 to include the first electrode 119. The first electrode 119 is formed.

화소 정의막(120)의 개구부 상에는 유기층(121)이 형성되며, 유기층(121)을 포함하여 화소 정의막(120)상에는 제 2 전극층(122)이 형성된다. The organic layer 121 is formed on the opening of the pixel defining layer 120 is formed, the second electrode layer 122 formed on the pixel defining layer 120 is formed with an organic layer (121).

제 2 기판(200)은 제 1 기판(100)상에 형성된 상기 소정의 구조물들을 외부의 산소 및 수분으로부터 보호하기 위해 소정의 구조물들을 사이에 두고, 프릿(150)에 의해 제 1 기판(100)과 합착 된다. The second substrate 200 includes a first substrate 100 onto the predetermined the structure sandwiching the predetermined structure to be protected from external oxygen and moisture, the first substrate 100 by the frit 150 formed on and it is attached to each other.이때, 제 2 기판(200)은 산화 실리콘(SiO 2 )으로 형성될 수 있으나 이에 제한되지는 않는다. At this time, the second substrate 200 may be formed of a silicon oxide (SiO 2), but is not limited to this.

한편, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200) 간에 발생하는 뉴톤링 현상을 방지하기 위한 구조는 여러 가지 형상으로의 변형이 가능하다. Meanwhile, the structure for preventing Newton's ring phenomenon that occurs between the first substrate 100 and second substrate 200 can be modified to various shapes.이에 대한 제 1 실시예를 도시한 도 3a에 의하면, 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)은 제 2 기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)보다 돌출되어 형성된다. The claim according to the first embodiment in Figure 3a shows an about, than the area (200a) is a region to which a frit 150 on the second substrate 200 is formed (200b) corresponding to the pixel area of ​​the second substrate 200 It is formed by extrusion.즉, 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각 하여 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 돌출되도록 한다. That is, such that the region (200a) corresponding to the pixel regions by etching the projecting region (200b) that frit 150 is formed.이는 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 제 1 기판(100)과 직접적으로 접촉되도록 하기 위한 구조이다. This is a mechanism to ensure that the area (200a) is in direct contact with the first substrate 100 corresponding to the pixel region of the second board 200.이에 따라 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)이 평행하여 접촉되므로 그 사이에 공간이 생성되지 않는다. Accordingly, since the contact with the first substrate 100 and second substrate 200 are parallel but this space is not generated therebetween.따라서, 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판 (200)이 소정의 공정으로 인해 휘어지는 현상이 발생하지 않아 뉴톤링을 방지할 수 있다. Thus, the first substrate 100 and second substrate 200 is not the bending phenomenon occurs because of the predetermined process can prevent Newton's rings.

또한, 소자의 뉴톤링 현상 방지를 위한 제 2 실시예를 도시한 도 3b에 의하면, 제 2 기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각하지 않고, 제 1 기판(100)에 형성된 화소 정의막(120)을 소정의 높이 이상 높게 형성하여, 제 2 기판(200)과 화소 정의막(120) 상에 형성된 제 2 전극층(122)이 접촉될 수 있도록 한다. Further, according to the second embodiment for preventing Newton's ring phenomenon of the device in Figure 3b illustrating, rather than etching a region (200b) that frit 150 is formed on the second substrate 200, a first substrate (100 ) and the pixel defining layer 120 is formed higher than a predetermined height formed on, so that the second substrate (the second electrode layer (122 formed on the 200) and the pixel defining layer 120) can be contacted.

또한, 소자의 뉴톤링 현상 방지를 위한 제 3 실시예를 도시한 도 3c에 의하면, 제 2 기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각 하여, 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 돌출되도록 형성한 후, 돌출된 영역(200a)에 투명 도전막(210)을 더 형성한다. Further, according to the third embodiment for preventing Newton's ring phenomenon of the device in Figure 3c illustrates, by etching a region (200b) that frit 150 is formed on the second substrate 200, second substrate 200 after the formation of such regions (200a) are protruded corresponding to the pixel area, and forms further a transparent conductive film 210 on the protruding area (200a).한편, 제 2 전극층(122)은 박막의 형태로 얇게 형성된다. On the other hand, the second electrode layer 122 is formed to be thinner in the form of a thin film.따라서 제 2 전극층(122)의 저항이 높아 제 2 전극층(122)과 제 2 기판(200)이 접촉됨에 있어서 소자의 전기적 특성이 저하될 수 있다. Accordingly there is an electrical characteristic of the device may decrease in As the resistance of the second electrode layer 122 increases the second electrode layer 122 and the second substrate 200 is in contact.

이를 방지하기 위해 제 2 전극층(122)과 접촉되는 제 2 기판(200)의 돌출된 영역(200a)에 투명 도전막(210)을 더 형성하여, 투명 도전막(210)이 제 2 전극층(122)의 저항을 감소시키는 보조전극으로서의 역할을 할 수 있도록 한다. Further forming a transparent conductive film 210 on the protruding area (200a) of the second substrate 200 in contact with the second electrode layer 122. In order to prevent this, a transparent conductive film 210, the second electrode layer (122 ) of and to the auxiliary electrode serves as to reduce the resistance.한편, 이러한 투명 도전막(210)으로는 ITO(indium tin oxide)을 사용할 수 있으며, 이에 제한되지 않는다. On the other hand, with such a transparent conductive film 210 may be used ITO (indium tin oxide), but is not limited thereto.

프릿(150)은 제 1 기판(100)의 비화소 영역(미도시)과 제 2 기판(200) 사이에 구비되며, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)을 접착시킨다. Frit 150 is adhered to the non-pixel region (not shown) and a second is provided between the second substrate 200, the first substrate 100 and second substrate 200 of the first substrate 100.이때, 프릿(150)은 제 1 기판(100)에 형성된 화소 영역(미도시)이 밀봉되도록 도포되는 것이 바람직하며, 주사 구동부(미도시)가 내장형으로 구비되었을 경우 화소 영역과 주사 구동부 를 포함하여 밀봉되도록 도포 될 수도 있다. At this time, the frit 150 comprises a pixel region and the scan driver when provided as a desirable, and a scan driver (not shown) pixel region (not shown) is applied so that the sealing integrated formed on the first substrate 100 It may be applied so as to seal.

이하, 상술한 구조로 형성되는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법을 설명하면 먼저, 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)의 외곽을 따라 프릿(150)을 도포한다. Hereinafter, the application of the frit 150 along the outside of a region (200a) corresponding to the pixel area of ​​when a manufacturing method of an organic light emitting display device, first, the second substrate 200 is formed of the above-described structure.이때, 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)은 제 2 기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)보다 돌출되어 형성된다. At this time, the area (200a) corresponding to the pixel area of ​​the second substrate 200 is formed to protrude more regions (200b) which the frit 150 of the second substrate 200 is formed.즉, 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각하여 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 돌출되도록 한다. That is, such that the region (200a) corresponding to the pixel regions by etching the projecting region (200b) that frit 150 is formed.이는 제 2 기판(200)의 화소 영역에 대응하는 영역(200a)이 제 1 기판(미도시)과 직접적으로 접촉되도록 하기 위한 구조이다. This is a mechanism to ensure that the area (200a) is in direct contact with the first substrate (not shown) corresponding to the pixel region of the second board 200.이에 따라 제 1 기판과 제 2 기판(200)이 평행하여 접촉되므로 그 사이에 공간이 생성되지 않는다. Accordingly, since the first substrate and the second substrate 200 is parallel to the contact it does not create a space therebetween.따라서, 제 1 기판 또는 제 2 기판(200)이 소정의 공정으로 인해 휘어지는 현상이 발생하지 않아 뉴톤링을 방지할 수 있다. Thus, the first substrate or the second substrate 200 is not the bending phenomenon occurs because of the predetermined process can prevent Newton's rings.

그 다음, 프릿(150)을 소정의 온도로 소성 하여 프릿(150) 내부에 포함된 불 순물 및 유기물등을 소멸하여 프릿(150)이 경화되도록 한다. Then, by sintering the frit (150) to a predetermined temperature to eliminate the organic matter and the impurities contained therein such as a frit 150 it will be such that the frit 150 is cured.(도 4a),(도 4b) (Fig. 4a), (Fig. 4b)

이 후, 적어도 제 1 기판(100)의 유기 발광 다이오드(10), 바람직하게는 제 2 전극(미도시)과 제 2 기판(200)이 평행하게 접촉되도록 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)을 합착한다. Thereafter, the organic light emitting of at least a first substrate 100, the diode 10, preferably a second electrode (not shown) and the first substrate 100 and the second substrate such that the second substrate 200 is parallel to the contact It is attached to each other (200).(도 4c) (Fig. 4c)

그리고 나서, 프릿(150)에 적외선 레이저를 조사하여 프릿(150)이 용융된 후 경화되면서, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)이 접착되도록 한다. Then, by irradiating the infrared laser to the frit 150 so that the frit 150, the first substrate 100 and second substrate 200. As the curing of the adhesive after being melted.(도 4d) (Fig. 4d)

한편, 도 4a 내지 도 4d를 참조하여서는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치를 제조하는 방법을 주로 설명하였으나, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)을 직접적으로 접촉되도록 하기 위한 제 2 기판(200)의 구조 및 그 제조방법은 상술한 바에 한정되지 않고 다양하게 변형 가능하다. On the other hand, in direct contact with the first substrate 100 and second substrate 200. Although primarily depicted and described a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a first embodiment of the present invention to be subjected to refer to the 4a-4d structure and a method of manufacturing the second substrate 200 to ensure that it is possible variously modified without being limited to the above-mentioned bar.

한편, 제 1 기판(100)과 직접 접촉되는 제 2 기판(200)의 소정의 영역에는 투명 도전막(미도시)을 더 형성하여, 제 2 전극과 제 2 기판(200)이 접촉되는데 있어서, 전기적 특성을 향상시킬 수 있다. In the other hand, the first and further form the substrate 100 and the (not shown), a predetermined area, a transparent conductive film of the second substrate 200 are in direct contact, there is the second electrode and the second substrate 200 in contact, it is possible to improve the electrical properties.또한, 제 2 기판(200)의 프릿(150)이 형성되는 영역(200b)을 식각 하지 않고, 제 1 기판(100)에 형성된 화소 정의막(미도시)의 두께를 두껍게 형성하여, 제 1 기판(100)과 제 2 기판(200)이 접촉되도록 형성될 수도 있다. Further, a not etch the region (200b) that frit 150 is formed in the second substrate 200, the thickened to form the thickness of the pixel defining layer (not shown) formed on the first substrate 100, a first substrate may be formed such that the contact 100 and the second board 200.

본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조 방법에 의하면, 봉지 기판과 기판의 화소 영역이 평행하게 접촉되도록 함으로써, 기판 또는 봉지기판이 휘는 현상으로 인해 발생하는 뉴톤링 현상을 방지할 수 있다. According to the organic light emitting display and a method of manufacturing the same according to the present invention, it is possible to prevent a Newton ring phenomenon, arising out of the substrate or bent the sealing substrate developer by making contact with the pixel region of the sealing substrate and the substrate in parallel.

전술한 발명에 대한 권리범위는 이하의 청구범위에서 정해지는 것으로, 명세서 본문의 기재에 구속되지 않으며, 청구범위의 균등범위에 속하는 변형과 변경은 모두 본 발명의 범위에 속할 것이다. The scope of the foregoing invention is to be defined in the claims below, not bound to the description of the specification text, modifications and changes belonging to equivalents of the claims will all belong to the scope of the invention.

Claims (8)

Translated from Korean

제 1 전극, 유기층 및 제 2 전극으로 구성되는 적어도 하나의 유기 발광 다이오드가 형성된 화소 영역과 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 비화소 영역을 포함하는 제 1 기판; A first electrode, an organic layer and a first substrate comprising a pixel region and a non-pixel region formed on the periphery of the pixel region and at least one organic light emitting diode formed consisting of a second electrode;

상기 화소 영역이 밀봉되는 위치에, 상기 제 1 기판과 합착되어 형성된 제 2 기판; A second substrate at a position where the seal the pixel region, formed are attached to each other with the first substrate;및 And

상기 제 1 기판의 상기 비화소 영역과 상기 제 2 기판 사이에 구비되어 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 접착시키는 프릿을 포함하며, Is provided between the non-pixel region of the first substrate and the second substrate comprises a frit for bonding the first substrate and the second substrate,

상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역과 상기 제 1 기판의 상기 제 2 전극이 직접 접촉되도록 형성된 유기 전계 발광 표시장치. Wherein the organic light-emitting device formed such that the second electrode is in direct contact with the area of ​​the first substrate corresponding to the pixel region of the second substrate.

제 1항에 있어서, According to claim 1,

상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역은 상기 제 2 기판의 상기 프릿이 형성되는 영역보다 돌출되어 형성된 유기 전계 발광 표시장치. Region is an organic light emitting display device is formed projecting than the area on which the frit of the second substrate is formed corresponding to the pixel region of the second substrate.

제 1항에 있어서, According to claim 1,

상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 투명 도전막이 더 형성 된 유기 전계 발광 표시장치. Area transparent conductive film further formed on the organic light emitting display device in which corresponds to the pixel area of ​​the second substrate.

제 3항에 있어서, 4. The method of claim 3,

상기 투명 도전막은 상기 제 2 전극과 직접 접촉되도록 형성된 유기 전계 발광 표시장치. The transparent conductive film is an organic light emitting display device is formed so that the direct contact with the second electrode.

제 1 전극, 유기층 및 제 2 전극으로 구성되는 적어도 하나의 유기 발광 다이오드가 형성된 화소 영역과 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 비화소 영역을 포함하는 제 1 기판 및 프릿에 의해 상기 제 1 기판과 접착된 제 2 기판을 구비하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법에 있어서, A first electrode, an organic layer and the at least one organic light emitting diode is formed in the pixel region and the first substrate and the first substrate and bonded by the frit containing the non-pixel region formed on the periphery of the pixel region composed of a second electrode in the production method of the organic light emitting display apparatus having a second substrate,

상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역의 외곽을 따라 상기 프릿을 도포하는 단계; Applying a frit along the outside of the region corresponding to the pixel region of the second substrate;

상기 제 2 전극과 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역이 직접 접촉되도록 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 합착하는 단계; The step of laminating the first substrate and the second substrate such that the direct contact area corresponding to the pixel region of the second electrode and the second substrate;및 And

상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역이 상기 제 2 기판의 상기 프릿이 형성된 영역보다 돌출되도록 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법. The method of manufacturing an organic light-emitting device region formed such that the protrusion is formed than the frit of the second substrate region corresponding to the pixel region of the second substrate.

제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,

상기 제 2 기판의 상기 프릿이 형성되는 영역을 식각 하여 상기 제 2 기판의 상기 화소 영역에 대응하는 영역이 돌출되도록 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법. The method of manufacturing an organic light-emitting device region formed such that the protrusion corresponding to etch the region in which the frit is of the second substrate formed on the pixel region of the second substrate.

제 5항에 있어서, 6. The method of claim 5,

상기 제 2 기판의 상기 제 2 전극과 접촉되는 영역에는 투명 도전막을 더 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법. The method of the second organic electroluminescent further form a film, the transparent conductive region that is in contact with the second electrode of the display device the second substrate.

KR1020060032075A2006-04-072006-04-07Organic light emitting display device and fabricating method of the same
KR100703457B1
(en)