G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values

G01P2015/0862—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with particular means being integrated into a MEMS accelerometer structure for providing particular additional functionalities to those of a spring mass system

G01P2015/0882—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with particular means being integrated into a MEMS accelerometer structure for providing particular additional functionalities to those of a spring mass system for providing damping of vibrations

Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS

Dans un exemple, le au moins un condensateur à capacité variable est par exemple à variation d'entrefer. In one example, the at least one variable capacitor is for example air gap variation.La variation d'entrefer entre les deux électrodes du condensateur peut varier d'une extrémité à l'autre dudit condensateur, par exemple dans le cas où les deux électrodes du condensateur ne sont pas parallèles entre elles. The air gap variation between the two electrodes of the capacitor may vary from one end to the other of said capacitor, for example in the case where both electrodes of the capacitor are not mutually parallel.

L'amortissement peut être contrôlé au moyen de la valeur de la ou des résistances et de la source d'alimentation. The damping can be controlled by means of the value of the or resistors and the power source.

Le masque est retiré et une étape de nettoyage a lieu. The mask is removed and a cleaning step takes place.L'élément ainsi formé est représenté sur la figure 9E. The element thus formed is shown in Figure 9E.Lors d'une étape suivante, on forme une couche de silicium 116 sur l'élément de la figure 10 E, par exemple par croissance épitaxiale sur une épaisseur de 20 um, de préférence cette croissance a lieu en quatre étapes de sorte à former quatre couches de 5 um. In a next step, forming a silicon layer 116 of the element of Figure 10 E, for example by epitaxial growth to a thickness of 20 um, preferably this growth takes place in four stages so as to form four layers of 5 .mu.m.Ensuite une étape de polissage mécano-chimique a lieu. Then a chemical mechanical polishing step takes place.L'élément ainsi formé est représenté sur la figure 9F. The element thus formed is shown in Figure 9F.Lors d'une étape suivante, on forme une couche de AlSi 118. L'élément ainsi formé est représenté sur la figure 9G. In a next step, a layer of AlSi 118. The element thus formed is shown in Figure 9G.

Lors de l'étape suivante on réalise une lithographie de manière à définir le MEMS. In the next step lithography is performed to define the MEMS.On dépose un masque puis on grave à la fois les couches 116 et 118. Par une seconde gravure de la couche 118, on définit la reprise de contact et les pistes conductrices. Depositing a mask and etching both the layers 116 and 118. By a second etching of the layer 118, we define the contact pickup and the conductive tracks.Un nettoyage peut ensuite avoir lieu. Cleaning may then take place.

16. Procédé de réalisation d'une structure ou d'un ensemble selon l'une des revendications là 15, comportant les étapes: - réalisation d'au moins une résistance électrique des moyens d'amortissement sur un support destiné à former au moins en partie la partie fixe, - réalisation de la partie suspendue et de la partie fixe de la structure - libération au moins de la partie suspendue. 16. A method of making a structure or an assembly according to one of claims 15 there, comprising the steps: - producing at least one electrical resistance of the damping means on a support intended to form at least in part the fixed part, - embodiment of the suspended part and the fixed part of the structure - at least release of the suspended part.20 20

17. Procédé de réalisation selon la revendication 16, dans laquelle, la réalisation de ladite au moins une résistance électrique comporte une étape de dopage de manière à contrôler la résistivité électrique de la partie du matériau dans laquelle est réalisée la résistance (R). 17. A production method according to claim 16, wherein performing said at least one electrical resistor comprises a doping step so as to control the electrical resistivity of the portion of the material wherein is formed the resistor (R).25 25

18. Procédé de réalisation selon la revendication 16 ou 17, comportant une étape de formation d'une couche de protection sur ladite résistance électrique avant la réalisation de la partie suspendue et de la partie fixe de la structure. 18. A production method according to claim 16 or 17, comprising a step of forming a protective layer on said electrical resistance prior to the completion of the suspended part and the fixed part of the structure.